Droplet Detection Metrology Utilizing Metrology Beam Scattering

WO2023285108 Art A1 19. Januar 2023

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023285108
Aktenzeichen
EP22740784
Anmeldetag
24. Juni 2022
Veröffentlichung
19. Januar 2023
Rechtsraum
WO
IPC
H05G2/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML NETHERLANDS B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen