Metrology systems with phased arrays for contaminant detection and microscopy

WO2023285138 Art A1 19. Januar 2023

Anmelder: ASML HOLDING N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023285138
Aktenzeichen: EP22743747
Anmeldetag: 28. Juni 2022
Veröffentlichung: 19. Januar 2023
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N21/956G02F1/295

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML HOLDING N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von