Pattern forming method, electronic device manufacturing method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film

WO2023286586 Art A1 19. Januar 2023

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2023286586
Aktenzeichen: EP22841930
Anmeldetag: 28. Juni 2022
Veröffentlichung: 19. Januar 2023
Rechtsraum: WO
IPC: C08F20/10G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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