Techniques for controlling vapor pressure of subject materials in vapor cells and related methods

WO2023287455 Art A1 19. Januar 2023

Anmelder: MICROCHIP TECHNOLOGY INCORPORATED 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2023287455
Aktenzeichen
EP21820803
Anmeldetag
26. Oktober 2021
Veröffentlichung
19. Januar 2023
Rechtsraum
WO
IPC
G04F5/14H03L7/26
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
MICROCHIP TECHNOLOGY INCORPORATED
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Microchip Technology

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Chandler, Arizona, bekannt für Mikrocontroller und analoge Halbleiterbauelemente.

1.426 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen