Cpp-agnostic source-drain contact formation for gate-all-around devices with dielectric isolation

WO2024001335 Art A1 4. Januar 2024

Anmelder: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024001335
Aktenzeichen: EP23829526
Anmeldetag: 23. März 2023
Veröffentlichung: 4. Januar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/423H01L29/78H01L29/10H01L21/336H01L29/786H01L27/088

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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