Material, method and apparatus for forming a patterned layer of 2d material

WO2024002578 Art A1 4. Januar 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024002578
Aktenzeichen: EP23726498
Anmeldetag: 12. Mai 2023
Veröffentlichung: 4. Januar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C23C16/04G03F7/16G03F7/20H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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