Abdeckung für ein Reinigungsmodul zum Reinigen einer Halbleiterscheibe und Verfahren zum Reinigen einer Halbleiterscheibe in einer Reinigungsstrasse

WO2024002690 Art A1 4. Januar 2024

Anmelder: SILTRONIC AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2024002690
Aktenzeichen
EP23733680
Anmeldetag
14. Juni 2023
Veröffentlichung
4. Januar 2024
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/67H01L21/683
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
SILTRONIC AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Siltronic

Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.

375 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen