Method for etching a plastic substrate including spraying and electrolytic regeneration
WO2024003327
Art A1
4. Januar 2024
Anmelder: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH&CO. KG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024003327
- Aktenzeichen
- EP23736341
- Anmeldetag
- 29. Juni 2023
- Veröffentlichung
- 4. Januar 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C18/24
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH&CO. KG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Atotech Deutschland
Atotech Deutschland ist ein deutscher Anbieter von Oberflächenveredelungschemie, unter anderem für die Elektronik- und Halbleiterindustrie, und gehört zum US-Konzern MKS Instruments. Das Patentportfolio konzentriert sich deutlich auf Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt durch Elektronik und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.
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