Method for etching a plastic substrate including spraying and electrolytic regeneration

WO2024003327 Art A1 4. Januar 2024

Anmelder: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH&CO. KG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2024003327
Aktenzeichen
EP23736341
Anmeldetag
29. Juni 2023
Veröffentlichung
4. Januar 2024
Rechtsraum
WO
IPC
C23C18/24
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH&CO. KG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Atotech Deutschland

Atotech Deutschland ist ein deutscher Anbieter von Oberflächenveredelungschemie, unter anderem für die Elektronik- und Halbleiterindustrie, und gehört zum US-Konzern MKS Instruments. Das Patentportfolio konzentriert sich deutlich auf Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt durch Elektronik und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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