Negative photosensitive resin composition, production method for resin film having pattern, resin film having pattern, and semiconductor circuit substrate

WO2024004462 Art A1 4. Januar 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024004462
Aktenzeichen: EP23830913
Anmeldetag: 25. Mai 2023
Veröffentlichung: 4. Januar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038C08G65/40C08G73/10G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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