Composition, resin composition, film formation composition, pattern formation method, and compound
WO2024005049
Art A1
4. Januar 2024
Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024005049
- Aktenzeichen
- EP23831489
- Anmeldetag
- 28. Juni 2023
- Veröffentlichung
- 4. Januar 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F12/00C08F246/00C08F220/18G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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