Polyphenol compound, film-forming composition for lithography, underlayer film for lithography, and method for forming pattern

WO2024005194 Art A1 4. Januar 2024

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024005194
Aktenzeichen: EP23831633
Anmeldetag: 30. Juni 2023
Veröffentlichung: 4. Januar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C07C39/15C07C69/21G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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