Method for formation of conformal alp sio2 films

WO2024006092 Art A1 4. Januar 2024

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024006092
Aktenzeichen: EP23832146
Anmeldetag: 16. Juni 2023
Veröffentlichung: 4. Januar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/04C23C16/44C23C16/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von