A fluid handling system, method and lithographic apparatus

WO2024008367 Art A1 11. Januar 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024008367
Aktenzeichen: EP23731565
Anmeldetag: 1. Juni 2023
Veröffentlichung: 11. Januar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von