Method of manufacturing laminate and method of manufacturing semiconductor element
WO2024009993
Art A1
11. Januar 2024
Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024009993
- Aktenzeichen
- EP23835525
- Anmeldetag
- 4. Juli 2023
- Veröffentlichung
- 11. Januar 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/11C08G77/02C08G77/04C08L83/04C08L101/00C09D183/04G03F7/20H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NISSAN CHEMICAL CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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