Linse für eine zum Betrieb im Duv Ausgelegte Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren und Anordnung zum Ausbilden einer Antireflexschicht

WO2024012820 Art A1 18. Januar 2024

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024012820
Aktenzeichen: EP23736613
Anmeldetag: 20. Juni 2023
Veröffentlichung: 18. Januar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00C23C14/22G02B13/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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