Substrate processing device, substrate processing method, and substrate processing program

WO2024014346 Art A1 18. Januar 2024

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024014346
Aktenzeichen: EP23839518
Anmeldetag: 3. Juli 2023
Veröffentlichung: 18. Januar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304G03F7/16G03F7/30H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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