Cerium-based abrasive material, polishing liquid, polishing liquid production method, and glass polishing method

WO2024014425 Art A1 18. Januar 2024

Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024014425
Aktenzeichen: EP23839597
Anmeldetag: 10. Juli 2023
Veröffentlichung: 18. Januar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C09K3/14C01F17/241C09G1/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: RESONAC CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Resonac

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Farben, Klebstoffe & Brennstoffe

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