Gas barrier film material, silicon oxide film, and production method of silicon oxide film

WO2024014503 Art A1 18. Januar 2024

Anmelder: TOSOH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2024014503
Aktenzeichen
EP23839675
Anmeldetag
13. Juli 2023
Veröffentlichung
18. Januar 2024
Rechtsraum
WO
IPC
C23C16/42B32B7/022B32B9/00C07F7/18H01L21/316
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
TOSOH CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tosoh Corporation

Japanisches Chemieunternehmen, das Petrochemikalien, Spezialchemikalien und Zement herstellt.

1.003 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von

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