Element tolerance analysis method and device for optical system, and element quality evaluation method and device for optical system
WO2024017275
Art A1
25. Januar 2024
Anmelder: TSINGHUA UNIVERSITY 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024017275
- Aktenzeichen
- EP23842338
- Anmeldetag
- 19. Juli 2023
- Veröffentlichung
- 25. Januar 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B27/00G01M11/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TSINGHUA UNIVERSITY
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Tsinghua University
Chinesische Universität mit Sitz in Peking, eine der führenden Forschungshochschulen des Landes. Aktiv in Ingenieurwissenschaften, Informatik, Materialwissenschaften und Naturwissenschaften sowie in zahlreichen technischen Anwendungsfeldern.
3.287 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.