Deep learning models for determining mask designs associated with semiconductor manufacturing

WO2024017808 Art A1 25. Januar 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024017808
Aktenzeichen: EP23742307
Anmeldetag: 14. Juli 2023
Veröffentlichung: 25. Januar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/36G03F1/70G06N3/02G03F7/20G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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