Reservoir device and process state prediction system
WO2024018696
Art A1
25. Januar 2024
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION HOKKAIDO UNIVERSIT 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024018696
- Aktenzeichen
- EP23842630
- Anmeldetag
- 4. April 2023
- Veröffentlichung
- 25. Januar 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G06N3/044G06N3/063
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION HOKKAIDO UNIVERSIT - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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