Method for forming alloy thin film using atomic layer deposition including optimal unit processes, and electronic device formed thereby

WO2024019498 Art A1 25. Januar 2024

Anmelder: INDUSTRY-UNIVERSITY COOPERATION FOUNDATION HANYANG 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024019498
Aktenzeichen: EP23843344
Anmeldetag: 19. Juli 2023
Veröffentlichung: 25. Januar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/40C23C16/06H01L21/285H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: INDUSTRY-UNIVERSITY COOPERATION FOUNDATION HANYANG
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Industry-University Cooperation Foundation Hanyang

Die Industry-University Cooperation Foundation Hanyang ist die Forschungstransferstelle der Hanyang University in Südkorea. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Medizintechnik, ergänzt um Mess- und Prüftechnik und Software. Anmeldungen laufen von 2011 bis in die Gegenwart.

345 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von