Apparatus for and method of aligning a laser system

WO2024019937 Art A1 25. Januar 2024

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024019937
Aktenzeichen: EP23752092
Anmeldetag: 14. Juli 2023
Veröffentlichung: 25. Januar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G02B7/00B23K26/04B23K26/70G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CYMER, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

399 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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