Plasma Monitoring And Plasma Density Measurement in Plasma Processing Systems

WO2024020024 Art A1 25. Januar 2024

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION, HANYANG UNIVERSITY 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024020024
Aktenzeichen: EP23843619
Anmeldetag: 18. Juli 2023
Veröffentlichung: 25. Januar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: LAM RESEARCH CORPORATION
HANYANG UNIVERSITY
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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