Method, lithography mask, use of a lithography mask, and processing arrangement

WO2024023165 Art A1 1. Februar 2024

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024023165
Aktenzeichen: EP23748987
Anmeldetag: 26. Juli 2023
Veröffentlichung: 1. Februar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/72

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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