Radiation-sensitive composition, method for forming resist pattern, and radiation-sensitive acid generator

WO2024024801 Art A1 1. Februar 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024024801
Aktenzeichen: EP23846531
Anmeldetag: 25. Juli 2023
Veröffentlichung: 1. Februar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C381/12C09K3/00G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

2.270 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von