Reflective member for euv lithography

WO2024027999 Art A1 8. Februar 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024027999
Aktenzeichen: EP23736631
Anmeldetag: 27. Juni 2023
Veröffentlichung: 8. Februar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G21K1/06G03F1/22

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von