Composition, compound, and method for manufacturing semiconductor substrate
WO2024029292
Art A1
8. Februar 2024
Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024029292
- Aktenzeichen
- EP23849851
- Anmeldetag
- 12. Juli 2023
- Veröffentlichung
- 8. Februar 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/11C07C13/58C07C13/62C07C13/66C07C39/17C07D487/04H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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