Semiconductor substrate production method and film forming composition

WO2024034311 Art A1 15. Februar 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024034311
Aktenzeichen: EP23852294
Anmeldetag: 11. Juli 2023
Veröffentlichung: 15. Februar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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