Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and electronic device manufacturing method

WO2024034438 Art A1 15. Februar 2024

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024034438
Aktenzeichen: EP23852411
Anmeldetag: 28. Juli 2023
Veröffentlichung: 15. Februar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F220/06C08F220/10G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von