Reflective mask blank for euv lithography, method for manufacturing same, reflective mask for euv lithography, and method for manufacturing same
WO2024034439
Art A1
15. Februar 2024
Anmelder: AGC INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024034439
- Aktenzeichen
- EP23852412
- Anmeldetag
- 31. Juli 2023
- Veröffentlichung
- 15. Februar 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/24
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AGC INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
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