Selective deposition of liner and barrier films for resistance reduction of semiconductor devices

WO2024035496 Art A1 15. Februar 2024

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024035496
Aktenzeichen: EP23853189
Anmeldetag: 5. Juli 2023
Veröffentlichung: 15. Februar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/417H01L23/528H01L23/522H01L27/092H01L21/8238

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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