Method for radiation spectrum aware souce mask optimization for lithography

WO2024037859 Art A1 22. Februar 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V., CYMER, LLC 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024037859
Aktenzeichen: EP23750977
Anmeldetag: 29. Juli 2023
Veröffentlichung: 22. Februar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: ASML NETHERLANDS B.V.
CYMER, LLC
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.359 Patente in unserer Datenbank

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

399 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von