Active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for forming pattern, and method for producing electronic device

WO2024038802 Art A1 22. Februar 2024

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024038802
Aktenzeichen: EP23854836
Anmeldetag: 8. August 2023
Veröffentlichung: 22. Februar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F212/08C08F220/12G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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