Cyclic method for reactive development of photoresists

WO2024039498 Art A1 22. Februar 2024

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024039498
Aktenzeichen: EP23855303
Anmeldetag: 26. Juli 2023
Veröffentlichung: 22. Februar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/36G03F7/004G03F7/20H01L21/027H01L21/308

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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