Photosensitive surface treatment agent, pattern formation substrate, laminate, transistor, pattern formation method, and transistor manufacturing method

WO2024043221 Art A1 29. Februar 2024

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024043221
Aktenzeichen: EP23857330
Anmeldetag: 22. August 2023
Veröffentlichung: 29. Februar 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03C1/72C07F7/18H01L21/288H01L21/336H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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