Apparatus and method for non-immersive wet-chemical treatment of a planar substrate and device for holding the substrate

WO2024046870 Art A1 7. März 2024

Anmelder: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH&CO. KG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024046870
Aktenzeichen: EP23761127
Anmeldetag: 24. August 2023
Veröffentlichung: 7. März 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C23G3/02H01L21/687B08B3/04B05C5/02B05C13/02H01L21/67B05C5/00C25D17/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH&CO. KG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Atotech Deutschland

Atotech Deutschland ist ein deutscher Anbieter von Oberflächenveredelungschemie, unter anderem für die Elektronik- und Halbleiterindustrie, und gehört zum US-Konzern MKS Instruments. Das Patentportfolio konzentriert sich deutlich auf Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt durch Elektronik und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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