Substrate processing method, method for producing semiconductor device, substrate processing apparatus, and program

WO2024047713 Art A1 7. März 2024

Anmelder: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2024047713
Aktenzeichen
EP22957317
Anmeldetag
29. August 2022
Veröffentlichung
7. März 2024
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/316
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Kokusai Electric

Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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