Composition, method for treating object to be treated, and manufacturing method for semiconductor device
WO2024048241
Art A1
7. März 2024
Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024048241
- Aktenzeichen
- EP23860006
- Anmeldetag
- 10. August 2023
- Veröffentlichung
- 7. März 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304C11D1/02C11D1/12C11D1/34C11D1/68C11D1/72C11D1/83C11D3/26C11D3/39H01L21/308
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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