Reflection-type mask blank, reflection-type mask and method for manufacturing same, and method for manufacturing semiconductor device

WO2024048387 Art A1 7. März 2024

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024048387
Aktenzeichen: EP23860150
Anmeldetag: 23. August 2023
Veröffentlichung: 7. März 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/54G03F1/80G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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