Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, method for producing electronic device, and polymer

WO2024048462 Art A1 7. März 2024

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024048462
Aktenzeichen: EP23860224
Anmeldetag: 25. August 2023
Veröffentlichung: 7. März 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F212/14C08F220/10G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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