Preparation method for quantum dot sensitized composite photo-anode, and quantum dot sensitized composite photo-anode and use therof

WO2024051019 Art A1 14. März 2024

Anmelder: SHENZHEN INSTITUTES OF ADVANCED TECHNOLOGY 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024051019
Aktenzeichen: EP22957978
Anmeldetag: 9. Dezember 2022
Veröffentlichung: 14. März 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C25B11/091C25B11/054C25B11/02C25B1/55

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHENZHEN INSTITUTES OF ADVANCED TECHNOLOGY
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Shenzhen Institutes of Advanced Technology

Chinesisches Forschungsinstitut in Shenzhen unter der Chinesischen Akademie der Wissenschaften mit Schwerpunkten in Robotik, Biomedizintechnik und neuen Materialien.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von