Laminated film and method for manufacturing semiconductor device
WO2024053232
Art A1
14. März 2024
Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024053232
- Aktenzeichen
- EP23862777
- Anmeldetag
- 6. Juli 2023
- Veröffentlichung
- 14. März 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09J7/35C09J11/06C09J163/00H01L21/60H01L25/065H01L25/07H01L25/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- RESONAC CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Resonac
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.
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Vertreten von
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