Radiation-sensitive composition, resist-pattern-forming method, radiation-sensitive acid generator and polymer

WO2024057701 Art A1 21. März 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024057701
Aktenzeichen: EP23865063
Anmeldetag: 18. Juli 2023
Veröffentlichung: 21. März 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F8/12C08F20/22C08F20/38C08F212/14C08F220/12C09K3/00G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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