Silicon oxide gel dispersion, transparent low-refractive-index film, and method for manufacturing silicon oxide gel dispersion
WO2024058165
Art A1
21. März 2024
Anmelder: NIPPON SHOKUBAI CO., LTD., NITTO DENKO CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024058165
- Aktenzeichen
- EP23865517
- Anmeldetag
- 12. September 2023
- Veröffentlichung
- 21. März 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B1/111C01B33/145C01B33/157C08J3/02C08L83/04C09D7/20C09D183/04G02B1/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- NIPPON SHOKUBAI CO., LTD.
NITTO DENKO CORPORATION - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nippon Shokubai
Japanisches Chemieunternehmen, das unter anderem Acrylsäure, Superabsorber und Katalysatoren für die Industrie produziert.
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🇯🇵
Nitto Denko
Japanisches Materialwissenschafts- und Chemieunternehmen mit Sitz in Osaka. Nitto Denko entwickelt Klebebänder, Folien, optische Materialien für Displays sowie Membranen und Materialien für Elektronik, Automobil und Medizintechnik.
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Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.