Selective directed assembly-based printing of metal oxide dielectric thin films

WO2024059338 Art A2 21. März 2024

Anmelder: NORTHEASTERN UNIVERSITY 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024059338
Aktenzeichen: EP23866288
Anmeldetag: 18. September 2023
Veröffentlichung: 21. März 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NORTHEASTERN UNIVERSITY
Land: 🇺🇸 USA

🇨🇳 Northeastern University

Die Northeastern University (chinesisch Dongbei Daxue) ist eine staatliche Universität in Shenyang, China, mit Schwerpunkten in Ingenieurwissenschaften, Werkstofftechnik und Informationstechnologie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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