Method of forming a patterned layer of material, apparatus for forming a patterned layer of material

WO2024061581 Art A1 28. März 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024061581
Aktenzeichen: EP23762484
Anmeldetag: 30. August 2023
Veröffentlichung: 28. März 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/04G03F7/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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