Polymer, resist composition containing said polymer, method for manufacturing member using same, and pattern formation method

WO2024062998 Art A1 28. März 2024

Anmelder: TOYO GOSEI CO., LTD., OSAKA UNIVERSITY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024062998
Aktenzeichen: EP23868121
Anmeldetag: 13. September 2023
Veröffentlichung: 28. März 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C08F220/38C08F8/00C08F212/14G03F7/004G03F7/20G03F7/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOYO GOSEI CO., LTD.
OSAKA UNIVERSITY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Osaka University

Staatliche Universität in Osaka, Japan, eine der führenden Forschungsuniversitäten des Landes mit Schwerpunkten in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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