Carbon dioxide absorbent and method for separating and recovering carbon dioxide

WO2024063017 Art A1 28. März 2024

Anmelder: NIPPON CHEMICAL INDUSTRIAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024063017
Aktenzeichen: EP23868138
Anmeldetag: 15. September 2023
Veröffentlichung: 28. März 2024
Rechtsraum: WO
IPC: B01D53/14B01D53/62B01D53/78C07F9/54

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIPPON CHEMICAL INDUSTRIAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nippon Chemical Industrial

Nippon Chemical Industrial ist ein japanischer Chemiehersteller mit Sitz in Tokio, der unter anderem anorganische Feinchemikalien und leitfähige Partikel produziert. Das Patentportfolio konzentriert sich auf anorganische Chemie sowie Halbleiter- und elektrische Bauelemente. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2000 bis 2025 ab.

257 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Organische Chemie Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von