Release agent, solvent for semiconductor, treatment liquid for semiconductor, release method, and semiconductor device manufacturing method
WO2024063107
Art A1
28. März 2024
Anmelder: TOKUYAMA CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024063107
- Aktenzeichen
- EP23868228
- Anmeldetag
- 20. September 2023
- Veröffentlichung
- 28. März 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304C11D7/08C11D7/18C11D7/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKUYAMA CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokuyama
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.
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